“兵家必爭”的CMP工藝中,對硅晶圓或其它襯底材料平坦化處理,需要把大顆粒徑的產(chǎn)品過(guò)濾,保留有效工作的顆粒進(jìn)行研磨,達到最優(yōu)化的流體動(dòng)力學(xué)狀態(tài)。

隨著(zhù)加工線(xiàn)寬的精細化要求,對于產(chǎn)品的潔凈控制越來(lái)越嚴苛,各種污染物,金屬離子的析出要求對濾芯的生產(chǎn)提出了更高的要求。大立過(guò)濾結合實(shí)際,為工藝的升級提供高潔凈度的產(chǎn)品,確保產(chǎn)品的質(zhì)量。

 

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